PS阴影制作核心原理剖析
阴影的本质是光线被物体阻挡后形成的视觉投影，在PS中需重点把握三个维度：光源角度决定投影方向，物体形态影响阴影轮廓，环境反光调节明暗过渡。成功的阴影制作需同时兼顾物理真实性与艺术表现力，避免生硬呆板的投影效果。
方法一：图层样式投影高效方案
此方案适用于快速生成标准投影，尤其适合UI元素与平面设计作品。新建画布后置入素材图层，双击图层激活混合选项面板。在投影参数区重点调节五大核心参数：混合模式建议选择正片叠底保持色彩自然，不透明度控制在25%-40%避免阴影过重，角度需与画面光源逻辑一致，距离参数决定物体悬浮高度，扩展值影响投影边缘锐利度。
进阶技巧在于大小参数的精细化调整，该值直接关联投影的虚实变化。较低数值产生锐利边缘适合强光环境，较高数值形成渐变柔化效果模拟漫反射。实时预览功能让设计师能同步观察参数调整带来的视觉变化，建议配合Alt键微调获得最佳透视关系。
方法二：椭圆阴影手绘技法
针对卡通风格或简约设计，手动绘制阴影更能体现创作自由度。在目标物体下层新建专用阴影层，选用椭圆选框工具创建基础投影形状。关键操作在于填充深色后执行高斯模糊（半径建议8-15像素），随后通过图层不透明度（通常设为30%-50%）控制投影浓度。
进阶处理可添加图层蒙版，使用渐变工具制作过渡自然的羽化边缘。此方法优势在于可自由变形阴影（Ctrl+T激活变形工具），通过斜切、扭曲等操作模拟特殊地面材质效果。需注意阴影层需转换为智能对象，避免多次编辑导致画质损失。
图层面板层级管理示范
方法三：写实投影深度制作
当需要照片级真实阴影时，必须重建物体空间投影关系。复制主体图层命名为阴影层，垂直翻转后执行自由变换（Ctrl+Shift+Alt配合拖动锚点），模拟地面透视变形。核心在于使用斜切工具调整接触点位置，确保物体与阴影的物理连接准确。
将阴影层填充深色后，采用渐变蒙版实现近实远虚的光学效果。添加曲线调整层压暗阴影根部，配合动感模糊（距离3-5像素）增强动态感。高精度作品建议叠加杂色滤镜（1%-3%），模拟真实环境中的漫反射颗粒。
最终图层结构示例
专业级阴影处理准则
阴影制作需遵循三大设计法则：首先明确统一光源方向，避免多光源冲突；其次控制投影浓度与环境光强度成反比；最后注意投影色温需包含环境反光色，避免使用纯黑色。特殊场景如透明物体需制作多重投影，金属物体需增加锐利高光边缘。
三种技法对应不同应用场景：图层样式适合批量处理同类元素，椭圆阴影优化扁平化设计流程，写实投影满足商业级精修需求。设计过程中可通过创建阴影专用图层组，配合调整层实现非破坏性编辑。掌握阴影与高光的互动关系，才能真正突破平面局限，赋予作品空间生命力。
